氣相二氧化硅分散機，氣相二氧化硅分散，氣相二氧化硅原本為納米級粒徑，分散時易團聚，難以分散機，傳統(tǒng)高速分散機無法分散*，存在死角。采用SGN研磨分散機，管線式結(jié)構(gòu)，物料一進一出，物料*得到分散剪切。
氣相二氧化硅分散機
氣相白炭黑分散機,二氧化硅分散機,氣硅高速分散機,化工分散機,德國超細分散機
氣相二氧化硅，多孔性，無毒無味無污染，耐高溫。同時它具備的化學惰性以及特殊的觸變性能明顯改善橡膠制品的抗拉強度，抗撕裂性和耐磨性，橡膠改良后強度提高數(shù)十倍。液體系統(tǒng)、粘合劑、聚合物等的流變性與觸變性控制，用作防沉、增稠、防流掛的助劑，HCR與RTV-2K硅酮橡膠的補強，可用來調(diào)節(jié)自由流動和作為抗結(jié)塊劑來改善粉末性質(zhì)等等。
氣相二氧化鈦，主要涉及的應用領域: 膠黏劑、涂料、油漆、油墨、電池、墨粉、醫(yī)藥、食品、塑料、造紙、化妝品、 硅橡膠、消泡劑、復合材料、飼料等各個領域。氣相法白炭黑，是一種白色、無毒、無味、無定形的無機精細化工產(chǎn)品。原子粒徑在7～40納米,比表面積在70～400m/g，具有良好的補強、增稠、觸變、消光、抗紫外線和殺菌等多種作用。
氣相二氧化硅分散，氣相二氧化硅原本為納米級粒徑，分散時易團聚，難以分散機，傳統(tǒng)高速分散機無法分散*，存在死角。采用SGN研磨分散機，管線式結(jié)構(gòu)，物料一進一出，物料*得到分散剪切。
氣相二氧化硅無論分散水中還是有機溶劑中，解決團聚問題至關重要，SGN研磨分散機是膠體磨和分散機合并而成的新設備，*級為膠體磨頭主要可以打開二級團聚體，第二級為分散盤定轉(zhuǎn)子，可以瞬間對物料進行剪切分散，從而避免物料的再次團聚。并且可以還原原始的氣相二氧化硅的納米物料粒徑，分散更加均勻。
SGN研磨分散機，GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
SGN的特點：
1、轉(zhuǎn)速提高，SGN分散機采用分體式結(jié)構(gòu)，而傳統(tǒng)分散機采用直連結(jié)構(gòu)（電機和分散軸直連），分體式結(jié)構(gòu)通過皮帶變速，轉(zhuǎn)速提高到14000rpm，當然剪切力更高！
2、特殊結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機的新型結(jié)構(gòu)，初級為膠體磨頭、二級為分散盤定轉(zhuǎn)子，納米物料可以一步到位的進行研磨分散。
3、采用博格曼雙端面機械密封，并設緩沖冷卻循環(huán)系統(tǒng)，在保證冷卻水的前提可24小時連續(xù)運行，滿足大工業(yè)化生產(chǎn)。
GMD2000系列研磨式分散設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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